Höchste Zuverlässigkeit für die fortschrittliche Halbleiterfertigung

Reinstwasser (UPW) wird in Fertigungen eingesetzt, um anorganische Salze und organische Substanzen von der Waferoberfläche zu entfernen; deren Vorhandensein wirkt sich unmittelbar auf die Anzahl der herstellbaren Chips oder Bauelemente aus. Da für die Reinigung eines einzelnen Silizium Wafers typischerweise 1.500 Liter Reinstwasser benötigt werden, lässt sich überspitzt behaupten, dass UPW das unsichtbare Fundament der Halbleiterfertigung bildet.


Seit über vierzig Jahren entwickelt, baut und betreibt Veolia Reinstwasser-Systeme für die fortschrittlichsten Fertigungen der Welt und kombiniert dabei globales Fachwissen mit Präzisionsfertigung und digitaler Steuerung. Unsere Lösungen bieten absolute Konsistenz und Verfügbarkeit und ermöglichen schnellere Produktionsanläufe, höhere Erträge und niedrigere Gesamtbetriebskosten.

Veolia arbeitet mit den weltweit führenden Halbleiterherstellern zusammen, um Reinstwassersysteme bereitzustellen, die für die fortschrittlichsten Fertigungsstrukturen von heute und von morgen ausgelegt sind.


Unsere Expertise deckt den gesamten Lebenszyklus von UPW-Systemen ab: von der Auslegung und Fertigung bis hin zu Inbetriebnahme, Betrieb und kontinuierlicher Optimierung. Ob Neubau einer Fertigung oder Modernisierung eines bestehenden Standorts – wir gewährleisten gleichbleibende Reinheit, digitale Steuerung und langfristige Zuverlässigkeit, bis zum letzten Tropfen.