Fallstudie

Gewährleistung der Wasserqualität in Soitecs neuer Wafer-Fertigung in Pasir Ris, Singapur

Erfahren Sie, wie Veolia eine komplette Lösung für das Wassermanagement entworfen, gebaut und betreibt, die 70m3/h Reinstwasser der Güteklasse A und 58m3/h Reinstwasser der Güteklasse B für die 400 Millionen Dollar teure Halbleiteranlage von Soitec unter Verwendung chemikalienfreier kontinuierlicher Deionisierungstechnologie produziert.

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In dieser Fallstudie

Erfahren Sie, wie Veolia eine kosteneffiziente und umweltfreundliche Lösung zur Aufbereitung von Reinstwasser und Abwasser für einen der weltweit führenden Hersteller von SOI-Wafern (Silicon-on-Insulator) realisiert hat. Entdecken Sie, wie die innovative CDI-Technologie die Kosten für die chemische Regeneration eliminiert und gleichzeitig strenge Spezifikationen für die Halbleiterindustrie erfüllt.

Gewinnen Sie Einblicke in:

  • Die Herstellung von Reinstwasser zweier Reinheitsgrade (Reinheitsgrad A: 70m3/h, Reinheitsgrad B: 58m3/h) für die 300-mm-Waferfertigung
  • Die Implementierung der chemikalienfreien kontinuierlichen Deionisierung (CDI-VNX) zur Eliminierung von Regenerationskosten und zur Neutralisierung von Abfällen
  • Die Einhaltung strenger Spezifikationen für TOC, spezifischen Widerstand, Bor, Siliziumdioxid und gelösten Sauerstoff
  • Die Behandlung von 154m3/h saurem Abwasser und 35m3/h Schlamm-/Fluoridabwasser gemäß den lokalen Einleitungsstandards
  • Die Entwicklung kompakter Systeme mit integrierter Kapazität für zukünftige Erweiterungen
  • Die Bereitstellung eines umfassenden Wassermanagements mit einem zweijährigen Betriebsvertrag